Ionenquellen

RFICP Ionenquellen

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Die RFICP Ionenquellen erzeugen eine Entladung mit hoher Dichte ohne Verwendung von Filamenten. Der aus der Entladung extrahierte Strahl wird präzise gesteuert, um eine definierte Form, Stromdichte und Ionenenergie bereitzustellen.

BeamTec bietet die komplette Produktlinie von Hochfrequenz, induktiv gekoppelten RFICP-Ionenquellen von Kaufman & Robinson. Die RFICP-Produkte beinhalten innovativste Gitterquellen Technologie. Fortschritte wie die HF-Filamentlose Plasmaentladung und die selbstjustierende Ionenoptik sind erwiesene Vorteile. Ohne Filament in der Plasmaentladungskammer sind die RFICP-Produkte für den Betrieb geeignet, bei dem reaktive Gasentladungen und lange Prozessabläufe kritisch sind.

Die RFICP-Produkte werden in einem umfassenden Produktpaket geliefert. Das Paket enthält alle Komponenten, die für die Installation und den Betrieb der RFICP-Produkte erforderlich sind, einschließlich der induktiv gekoppelten RFICP-Ionenquelle, anwendungsspezifischen Ionenoptiken, Elektronenquellenneutralisator, Stromversorgungs-Controller, Vakuumdurchführungen und Kabeln.

Unsere RFICP-Produkte werden weltweit in der Forschung und inder industriellen Fertigung von optischen, photonischen, magnetischen und mikroelektronischen Geräten eingesetzt. Die RFICP-Pakete sind anInstallationsplattformen anpassbar. Diese Konfigurationen können in zahlreiche Vakuumprozess-Plattformen integriert werden, einschließlich kleiner Mehrzweck-Forschungs- und Entwicklungssysteme, dedizierter Abscheide- oder Ätzsysteme für Planetenbewegungen, Box Coater, Einzel-Wafer-Load-Lock-Cluster-Tools und Beschichter für Sputter-Systeme mit niedrigem Profil.

Die RFICP-Produkte werden in Standard- und neuartigen Materialprozessen eingesetzt. Die Fähigkeit, Ionenspezies mit spezifischer Energie, chemischer Reaktivität, Stromdichte und Flugbahn herzustellen und zu kontrollieren, macht die RFICP-Produkte zu wirksamen Werkzeugen für die Herstellung von Präzisionsfilmen und -oberflächen. Ob Verdichtung, optische Übertragung, kritische Gleichmäßigkeit der Dicke, glatte Grenzflächen, verbesserte Haftung oder vertikale Seitenwände, die RFICP-Produkte sorgen für vorteilhafte Materialeigenschaften.

Eigenschaften

  • Induktiv gekoppelt / HF-Entladung
  • Selbstausrichtende Ionenoptik
  • Filamentlos
  • Gaskompatibilität mit Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2 und anderen
  • Strahlprofil: kollimiert, konvergent, divergent
  • Niedrige Ionenenergie Option ohne Gitter

Typische Anwendungen der RFICP-Quellen sind unter anderem
 

  • Ionenstrahl unterstützte Beschichtung bei thermischen & Elektronenstrahl Verdampfung (IBAD)
  • In-situ Vorreinigung bei Sputtern & Verdampfung (PC)
  • Oberflächenbehandlung und -aktivierung (SM)
  • Direktbeschichtung von Dünn-, Hart- und Funktions-Schichten (DD)
  • Ionenstrahl Sputterbeschichtung von Einzel- oder Multi-Layer Strukturen (IBSD)
  • Ionenstrahlätzen von Oberflächen in jedem Material (IBE)
  • Ionenstrahlabgleich, -abstimmung unf -formung von Präzisionsgeräten (IBE)
 RFICP40RFICP100RFICP140RFICP220RFICP380
Ionenstrahlstrom> 100 mA> 350 mA> 600 mA> 800 mA> 500 mA
Strahlspannung100 - 1200 V100 - 1200 V100 - 1200 V100 - 1200 V100 - 1200 V
Strahlgröße am Gitter40 mm> 100 mm140 mm> 200 mm> 360 mm
Gasfluss3 - 10 sccm5 - 30 sccm5 - 30 sccm10 - 40 sccm10 - 80 sccm
Länge135 mm191 mm246 mm410 mm580 mm
Höhe127 mm235 mm246 mm300 mm380 mm

Selbstausrichtende Gitter (OptiBeam™)

Die KDC-Produktlinie umfasst die patentierte, selbstausrichtende Ionenoptiktechnologie von KRI. Die OptiBeam™ -Raster erfordern kein Ausrichtungsverfahren. Dank fortschrittlicher Konstruktion und präziser Fertigung wird durch die einfache Montage die korrekte Ausrichtung der Gitter sichergestellt. Die Vorteile der selbstausrichtenden Gitter umfassen einen konstanten Ionenstrahl, verlängerte Gitterlebensdauer, maximierten Ionenstrom, reduzierte Wartungszeiten und verbesserte Betriebszeiten.