Ionenquellen

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Gitter- und Gitterlose-Ionenquellen

BeamTec GmbH vertreibt exklusiv die Ionenquellen der „Next Generation“-Serie von Kaufman & Robinson, Inc (KRI). Das Produktspektrum umfasst neben gitterlosen End-Hall Ionenquellen auch Gitterionenquellen in Kaufman- und RFICP-Ausführung. Die Komponenten sind so konzipiert, dass sie entweder für Nachrüstungen in bestehende Bedampfungsanlagen oder als Zusatzkomponente in neue Vakuumsysteme eingesetzt werden können.

Typische Einsatzgebiete finden sich z.B. in der ionenstrahlunterstützten Bedampfung (IBAD), der Substratreinigung und der Herstellung diamantähnlicher Schichten (DLC).

KRI ist ein US-amerikanisches Unternehmen, das sich auf die Entwicklung, die Fertigung und den Vertrieb von Ionenstrahlquellen und den dazugehöirgen Stromversorgungen spezialisiert hat. KRI hat im Laufe der letzten 30 Jahre eine breite Palette von Ionenquellen entwickelt, worunter das Modell EH1000 als Nachfolger der erfolgreichen Mark II Quelle betrachtet werden kann. KRI ist Entwickler und Patentinhaber der gitterlosen End-Hall-Technologie und hält eine Vielzahl an weiteren Patenten im Bereich der Ionenstrahltechnologie.

Lineare Ionenquellen

Neu in unserem Programm sind die Linearen Ionenquellen von Beams & Plasmas.
Diese Ionenquellen erzeugen einen breiten Ionenstrahl hoher Gleichmäßigkeit entlang ihrer Länge. Sie sind sehr zuverlässig und robust und können mit vielen Gasen und Gasgemischen betrieben werden.
Sie benötigen keinen extra Neutralisator zur Ladungskompensation und können daher dauerhaft mit chemisch aktiven Gasen wie Sauerstoff, Luft, Halogenen, usw. verwendet werden.
Die Elektroden haben eine nahezu unbegrenzte Lebenszeit, wenn z.B. Sauerstoff als Prozessgas verwendet wird.

Unser Angebot umfasst lineare Ionenquellen in Längen von 125 mm bis zu 800 mm und eine kompakte Rundquelle mit einem Durchmesser von 52 mm.

Diese Ionenquellen werden typischerweise für Ionenreinigung, Ionenätzen, Ionenstrahlsputtering (IBS), ionenstrahlunterstützte Bedampfung (IBAD), PECVD und DLC Beschichtungen und Oberflächenbehandlung verwendet.

Beams & Plasmas ist ein russischer Hersteller für Ionenquellen nach dem Prinzip invertierter Magnetrons als auch von RF -Plasmaquellen mit 13,56 MHz Anregungsfrequenz. 

Produktspektrum

 End-HallAnode LayerRF ICP PlasmaRF PlasmaKaufman KDCRF ICP
end-hall-ionenquellwanode-layer-ionenquelleRF-ICP-Plasma-quelleRF-Plasma-quellekaufman-quelleRF-ICP-ionenquelle
Kaufman & Robinson Inc. LogoBeams&Plasma LogoKaufman & Robinson Inc. LogoBeams&Plasma LogoKaufman & Robinson Inc. LogoKaufman & Robinson Inc. Logo
gitterlosgitterlosgitterlosgitterlos2-/3-fach Gitter2-/3-fach Gitter
PlasmaentladungDCDC2 MHz13,56 MHzDC2 MHz
Ionenenergie [eV]20 - 210500 - 25005 - 505 - 50100 - 1500100 - 1500
Max. Ionenstrom [mA]6000200010001000
Strahlprofilgaußverteilt,
45° HWHM
Hohlprofilgaußverteiltgaußverteiltfokussiert / kollimiert /
defokussiert
fokussiert / kollimiert /
defokussiert
Max. Strahlabdeckung
@ 300 mm [mm]
500 dia775 x 42 (L800)500 dia500 dia300 dia (KDC160)400 dia (RFICP360)
Blende / Gitterdurchmesser [mm]D22,
42 x 120 / 375 / 575 / 775
140128, 25010, 40, 80, 120, 16040, 120
140, 220, 360
Druck [mbar]1E-5 - 5E-31E-5 - 1E-15E-4 - 1E-21E-3 - 1E-11E-5 - 5E-41E-5 - 5E-4

Gerne senden wir Ihnen aktuelle Produktinformationen auf Anfrage über info@beamtec.de zu.