Ionenquellen

Anode Layer Ionenquellen

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Lineare Ionenquellen erzeugen breite Ionenstrahlen mit hoher Homogenität entlang ihrer Länge. Diese Anode Layer Ionenquellen sind sehr zuverlässige und robuste Geräte, die mit einer Vielzahl von Gasen und Gasgemischen betrieben werden können. Sie benötigen keinen zusätzlichen Neutralisator für die Ladungskompensation und können daher mit chemisch aktiven Gasen (Sauerstoff, Luft, Halogene usw.) uneingeschränkt arbeiten. Die Elektroden der Quelle haben eine fast unbegrenzte Lebensdauer mit Sauerstoff gearbeitetet wird. Für viele Anwendungen kann Luft anstelle von Sauerstoff verwendet werden.

Montagekonfigurationen

Alle linearen Ionenquellen sind für interne und externe Montagekonfigurationen verfügbar. Intern montierte Quellen umfassen eine einzelne KF25-Durchführung. Eine Kippkopfoption mit variabler Eindringtiefe, z.B. für die Ionenunterstützung bei konfokalen Sputteranwendungen können für die kleineren L125- und L145-Quellen bestellt werden.

Netzteil-Paket

Neben den invertierten Magnetron-Ionenquellen bieten wir dedizierte spannungs- oder stromgesteuerte Netzteile an. Bei Verwendung der integrierten Gassteuerungsfunktion können sowohl der Ionenstrahlstrom als auch die Anodenspannung konstant gehalten werden.

Rundquelle D52

Neben den linearen Quellen bietet die kreisförmige Ionenquelle D52 ein röhrenförmiges Strahlprofil mit 22 mm Durchmesser und geringer Divergenz. Daher ist sie ideal für das Ionenstrahl-Sputtern oder Ätzen auf kleinen Zielen oder Substraten bei gleichzeitig hohen Ionenenergien mit einem Ionenstrahlstrom von bis zu 150 mA.

 

Eigenschaften

  • Kompaktes Lineares Design
  • Versionen mit internen oder Flansch Montage
  • Lange Elektrodenlebenszeit
  • Selbstneutralisierender Ionenstrahl
  • Hohe Ionendichte
  • Kompatibel mit einer Vielzahl von Gasen
  • Breiter Druckbereich bis 1E-1 mbar

Typische Anwendungen der Anode Layer Quellen sind unter anderem
 

  • Ionenstrahl Reinigung und Ätzen
  • Ionenstrahl unterstützte Beschichtung bei thermischen & Elektronenstrahl Verdampfung (IBAD)
  • Oberflächenbehandlung und -aktivierung (SM)
  • Ionenstrahl Sputtern (IBS)
  • PECVD & DLC
 D52L125L145L400L600L800
Versorgungsspannung500 .. 5000 V
Mittl. IonenenergieCa. 1/2 der Versorgungsspannung
Max. Strahlstrom150 mA300 mA350 mA1000 mA1500 mA2000 mA
Gaseffizienz8 mA/sccm10 mA/sccm
StrahlprofilRöhreHohles Rechteck
Strahlgröße22 mm dia100 x 42 mm120 x 42 mm375 x 42 mm575 x 42 mm775 x 42 mm
Interne Quellenlänge52 mm dia126 mm146 mm396 mm600 mm800 mm
Externer FlanschISO63KISO160KISO160K480 x 186 mm684 x 186 mm884 x 186 mm
Strahlwinkel
Druck1E-5 bis 1E-1
ArbeitsgasAr, H2, He, Xe, O2, N2, CxHy, CO2, CxFy