Kaufman & Robinson Inc. stellt eine neue gepulste Plasmastromversorgung vor, eine innovative 3000-Watt-Einheit mit einem Ausgang, die speziell für Pulsed-DC- und Standard-DC-Magnetron-Sputtern in reaktiven und nicht-reaktiven Prozessen entwickelt wurde. Dieses Gerät bietet einstellbare Duty Cycles und arbeitet mit Frequenzen bis zu 100 kHz, ergänzt durch ultraschnelle 100-ns-Arc-Erkennung und 1-µs-Bekämpfung für höchste Stabilität. Wichtige Merkmale umfassen einstellbare Rückspannung bis 150 V, einen breiten Spannungsbereich von 0-1000 V bei bis zu 10 A, variable Frequenzen und niedrige Arc-Energie zur Verbesserung der Dünnschichtqualität
Spezifikationen
- 3000 W Leistung für Pulsed-DC-Magnetron-Sputtern.
- Breiter Spannungsbereich (0-1000 V) und Strom bis 10 A mit einstellbarer Rückspannung bis 150 V.
- Frequenzen bis 100 kHz und voll einstellbarer Duty Cycle für flexible Anwendungen.
Vorteile
- Extrem schnelle Bogenbehandlung minimiert Defekte und Ausfälle.
- Unterstützt reaktive und nicht-reaktive Prozesse für fortschrittliche Beschichtungen.
- Kompaktes Rack-Design aus dem bewährten Portfolio von Kaufman & Robinson.
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