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< Erweiterte Unterstützung für GENCOA Produktlinie
08.01.2017 21:10 Alter: 341 days

OPTIX Gasanalysetool zur Prozesskontrolle

Einfaches Gasmonitoring über Remote Plasma Spektroskopie


GENCOA hat eine revolutionierendes Gasanalysesystem für Vakuumsysteme entwickelt, welches die Gaszusammensetzung über die Spektralanalyse von einem Remote-Plasma interpretiert. Das Tool kann einfach an einen vorhanden KF25-Anschluss an die Vakuumkammer angeschlossen werden, und die mitgelieferte Software liefert eine in-situ Darstellung und den Zeitverlauf der detektierten Gasbestandteile. Ohne differienzielles Pumpen kann dabei ein Prozessdruck von 0,5 mBar bis 5E-6 mBar für die Gasanalyse abgedeckt werden.

Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Informationen und verfügbaren Demonstrationsterminen an Ihren Vakuumanlagen.