Kaufman & Robinson Inc. introduces the Pulsed DC Sputter Power Supply, a cutting-edge 3000 Watt single-output unit optimized for both pulsed DC and standard DC magnetron sputtering in reactive and non-reactive processes. This innovative device features adjustable duty cycles and operation up to 100 kHz, along with rapid 100 ns arc detection and 1 µs mitigation for superior stability. Key highlights include adjustable reverse voltage up to 150 V, a wide 0-1000 V range at up to 10 A, variable frequencies, and low arc energy to enhance thin-film quality and process reliability.
Core Specifications
- 3000 W power tailored for pulsed DC magnetron sputtering.
- Wide voltage (0-1000 V) and current (up to 10 A) range with adjustable reverse voltage up to 150 V.
- Frequencies up to 100 kHz and fully adjustable duty cycle for versatile operation.
Key Advantages
- Ultra-fast arc handling prevents defects and downtime in demanding applications.
- Supports both reactive and non-reactive processes for advanced coatings.
- Compact rack-mount design from Kaufman & Robinson’s proven power supply lineup.
Neue gepulste DC-Stromversorgung mit Polaritätsumkehr
Kaufman & Robinson Inc. stellt eine neue gepulste Plasmastromversorgung vor, eine innovative 3000-Watt-Einheit mit einem Ausgang, die speziell für Pulsed-DC- und Standard-DC-Magnetron-Sputtern in reaktiven und nicht-reaktiven Prozessen entwickelt wurde. Dieses...
QMB6-Pro Quarzmonitorbox mit integrierter Rateberechnung
Die Produktreihe der QMB6-Quarzmessboxen für die Schichtdickenmessung wurde durch die PRO-Serie erweitert. Neben der Übergabe der Frequenzinformation für bis zu zwei Messköpfe, erfolgt die Berechnung der Rate und Schichtdicke nun auch intern im Gerät, anstatt über...