Ionenquellen

eH3000

Die eH3000 ist die größte und leistungsstärkste Ionenquelle der eH-Produkte. Aufgrund ihrer Größe und Leistung eignet sie sich besonders für Hochleistungsanwendungen und Produktionssysteme mit hohem Durchsatz. Die eH3000 gibt die hohe Stromdichte aus, die benötigt wird, um das Filmwachstum in großen Beschichtungsanlagen zu unterstützen. Beim Einbau in Abscheidungssystemen mit kritischen Abmessungen von mehr als 1 Meter werden so günstige Filmeigenschaften in Bezug auf Packungsdichte, Spannung, Umweltstabilität und Stöchiometrie erzielt. Im Vergleich zu anderen Hochleistungs-Plasmaquellen zeichnet sich die eH3000 durch ihre Investitionsrendite aus und ist die effizienteste Plasmaquelle mit hohem Ionenfluss.

Spezifikationen

Quellenleistung3000 W max
Anodenstrom20 A
Strahlstrom2000 mA max
Anodenspannung250 V max
Mittl. Strahlenergie35 – 200 eV
Gasfluss1 – 150 sccm
Divergenz60°
Druckbis zu 1 x 10-3 mbar
Höhe150 mm
Gewicht3,6 kg

 

Die eH3000 kann sowohl mit einem Filament als auch mit einer Hohlkathode zur Neutralisierung und Plasmaentladung betrieben werden.
Der Betrieb mit einer Hohlkathode ermöglicht längere Betriebszeiten und ermöglicht eine höhere Reinheit der Dünnfilmumgebung im Vergleich zum Betrieb mit einem Filament.

Eigenschaften

Divergenter Strahl

Aus der Plasmaentladung beschleunigen die Ionen zu einem Strahl mit einem divergenten Ionenstromfluss. Der halbe maximale halbe Winkel überschreitet einen Winkel von 45 ° zur Quellachse. Der divergente Strahl eines eH-Produkts deckt einen großen Bereich ab. Die Möglichkeit eine breite Prozesszone gleichmäßig abzudecken ermöglicht einen Betrieb mit hohem Durchsatz, da ein Prozess, der mit einer großen Teilelast oder einer großen Substratfläche ausgeführt wird, bei einem eH-Produkt praktisch wird.

Gitterlos

Die eH-Produkttechnologie setzt auf eine gitterlose Konstruktion. Die Ionen beschleunigen direkt aus der Plasmaentladung, um den Strahl zu bilden. Die gridless eH-Technologie ergänzt unsere Produkte mit Gitter-Ionenquellen, da sie wünschenswerte Strahleigenschaften erzeugen, die mit Gitter-Quellen nicht ohne weiteres verfügbar sind. Zu den weiteren Vorteilen der eH Gridless-Funktion gehört, dass Sie keine Gitter warten, ausrichten oder austauschen müssen. Die eH-Produkte sind robust und einfach zu bedienen. Und normalerweise kosten sie weniger als ihre Gegenstücke mit Gitter.

DC-Entladung mit hoher Dichte

Die Produkte verwenden einen bewährten und effizienten Plasmaerzeugungsprozess. In der Entladungskammer emittiert eine Kathode thermionisch eine zuverlässige Elektronenquelle. Die Elektronen werden von einer Gleichstrom-Metallanode angezogen. Die neutrale Gasspezies wird aufgrund eines begrenzenden Magnetfelds effizient ionisiert. Dieser Mechanismus erzeugt ein Plasma mit hoher Dichte aus vielen Gasen, einschließlich Ar, Xe, O2, N2 und anderen reaktiven Gasen.

Niedrige Energie und hoher Stromausgang

Die eH-Produkte geben einen Hochstrom- und Niedrigenergiestrahl aus. Der hohe Ionenstrom erfüllt kritische Ankunftsverhältnisse für hohe Prozessraten. Die hohe Stromstärke ermöglicht auch eine produktive Verarbeitung auf harten, harten Materialien. Durch den energiearmen Ionenbeschuss werden Oberflächen und Schnittstellen geschädigt. Die Verarbeitung bei niedrigen Energien hat sich beim Arbeiten mit empfindlichen Materialien bewährt.

Nicht eingetauchte Neutralisatoren

Die Standard-Neutralisiererkonfiguration besteht aus einem kostengünstigen feuerfesten Metallfaden, der sich über den Ionenstrahl erstreckt. Das Filament wird auf thermionische Emissionstemperatur erhitzt. Der Filamentneutralisator kann durch einen alternativen nicht eingetauchten Neutralisator ersetzt werden. Der nicht eingetauchte Neutralisator befindet sich seitlich der Quelle und außerhalb des Ionenstrahls. Wenn sich der Neutralisator außerhalb des Strahls befindet, ist die Zeit zwischen den Wartungsarbeiten für den nicht eingetauchten Neutralisator wesentlich länger als für den Filament-Neutralisator. Diese Konfiguration ohne Untertauchen ist für Installationen mit niedriger Frequenz und lange Betriebszeiten geeignet, wenn das Risiko einer Prozessunterbrechung minimiert werden muss.

Schnellwechsel-Anodenmodul

Das eH-Produkt enthält unser patentiertes Schnellwechsel-Anodenmodul. Das Anodenmodul kann zur Wartung schnell von der Ionenquelle entfernt werden, während der Quellkörper in der Kammer verbleibt. Das Anodenmodul ist leicht und austauschbar. Durch einfaches Austauschen des Arbeitsanodenmoduls gegen ein Ersatzmodul kann das eH-Produkt innerhalb von Minuten einsatzbereit sein. Das ausgebaute Anodenmodul kann einfach auf einer Werkbank gewartet werden, während Ihre Vakuumkammer weiterhin produktiv ist. Die Betriebszeitvorteile sind erheblich.

Stabile Neutralisierung

Die Produktlinie bietet einen dedizierten und regulierten Elektronenquellen-Neutralisator. Mit einer zuverlässigen Elektronenquelle können die Produkte dielektrische, elektrisch isolierte und elektrostatisch empfindliche Substrate verarbeiten. Die Elektronenmenge wird genau gesteuert, um sich an positive Ladungen anzupassen. Die Elektronen sind in der richtigen Menge im Ionenstrahl vorhanden und kommen an der Substratoberfläche an, um einen elektrisch neutralen Prozess bereitzustellen. Der Betrieb muss sich nicht auf eine mehrdeutige Elektronenquelle wie freiliegende und leitfähige Kammerhardware verlassen. Der Beschichtungsaufbau und elektromagnetische Streufelder, die in der Vakuumkammer vorhanden sein können, beeinträchtigen die Ionenstrahlqualität, -stabilität und -neutralisation der Produkte nicht. Wenn der Neutralisationsprozess jedoch nicht so kritisch ist, ermöglichen die Produkte den Betrieb ohne Neutralisator.