Ionenquellen

eH2000

Die eH2000 ist eine leistungsfähigere Version der eH1000. Durch die Wasserkühlung bietet die eH2000 alle Leistungsvorteile einer eH1000, jedoch mit höherer Leistung. Die eH2000 bietet eine zunehmend höhere Ionenstrahlleistung für Anwendungen, die von höheren Prozessgeschwindigkeiten oder größeren Installationsgeometrien profitieren. Zusätzlich kann die Wasserkühlung der eH2000 dazu beitragen, die Substrattemperatur zu senken, was bei der Verarbeitung von Kunststoffsubstraten von Vorteil sein kann.

Spezifikationen

Quellenleistung1700 W max
Anodenstrom10 A
Strahlstrom2000 mA max
Anodenspannung300 V max
Mittl. Strahlenergie35 – 210 eV
Gasfluss1 – 100 sccm
Divergenz60°
Druckbis zu 1 x 10-3 mbar
Höhe100 mm
Gewicht3,6 kg

 

Die Vielseitigkeit des eH2000-Produkts kann durch optimierte Konfigurationen für spezifische Anwendungen realisiert werden. Zum Beispiel kann die eH2000 leicht modifiziert werden, um einen zusätzlichen O2-Ionen-Strahlstrom für dieselbe Eingangsleistung zu erzeugen. Durch eine einfache Rekonfiguration erzeugt die Ionenquelle für eine gegebene Plasmaleistung mehr Ionenstrahlstrom. Mit nur geringen Kosten kann dieselbe Ionenquelle für neue Anwendungen aufgerüstetet werden, die von höheren O2-Ionenströmen profitieren.

Die eH2000 erzeugt einen Ionenstrahl hohen Stroms und niedriger Energie, der sich ideal für Oberflächenbehandlungen und Anwendungen zum Dünnschichtwachstum eignet. Unter anderem:

  • Ionenstrahl unterstüzte Beschichtung (IBAD)
  • In-situ Substrat-Vorreinigung (PC)
  • Diamond Like Carbon (DLC)

 

eH2000F – Filament Version

Diese Version verwendet einen robusten Wolframkathodenfaden, um sowohl die Plasmaentladung als auch die automatische Strahlneutralisation bereitzustellen. Dank neuer Konstruktionsmerkmale kann die Quelle längere Zeit mit inerten oder reaktiven Gasen arbeiten.

eH2000HCF – Hohlkathode Version

Diese Version ist mit einer neuartigen Hohlkathodenelektronenquelle anstelle des Filaments ausgestattet. Es sind extrem lange Betriebszeiten möglich und das Fehlen eines thermoionischen Filaments fördert eine Dünnfilmumgebung mit sehr hoher Reinheit.

Eigenschaften

Divergenter Strahl

Aus der Plasmaentladung beschleunigen die Ionen zu einem Strahl mit einem divergenten Ionenstromfluss. Der halbe maximale halbe Winkel überschreitet einen Winkel von 45 ° zur Quellachse. Der divergente Strahl eines eH-Produkts deckt einen großen Bereich ab. Die Möglichkeit eine breite Prozesszone gleichmäßig abzudecken ermöglicht einen Betrieb mit hohem Durchsatz, da ein Prozess, der mit einer großen Teilelast oder einer großen Substratfläche ausgeführt wird, bei einem eH-Produkt praktisch wird.

Gitterlos

Die eH-Produkttechnologie setzt auf eine gitterlose Konstruktion. Die Ionen beschleunigen direkt aus der Plasmaentladung, um den Strahl zu bilden. Die gridless eH-Technologie ergänzt unsere Produkte mit Gitter-Ionenquellen, da sie wünschenswerte Strahleigenschaften erzeugen, die mit Gitter-Quellen nicht ohne weiteres verfügbar sind. Zu den weiteren Vorteilen der eH Gridless-Funktion gehört, dass Sie keine Gitter warten, ausrichten oder austauschen müssen. Die eH-Produkte sind robust und einfach zu bedienen. Und normalerweise kosten sie weniger als ihre Gegenstücke mit Gitter.

DC-Entladung mit hoher Dichte

Die Produkte verwenden einen bewährten und effizienten Plasmaerzeugungsprozess. In der Entladungskammer emittiert eine Kathode thermionisch eine zuverlässige Elektronenquelle. Die Elektronen werden von einer Gleichstrom-Metallanode angezogen. Die neutrale Gasspezies wird aufgrund eines begrenzenden Magnetfelds effizient ionisiert. Dieser Mechanismus erzeugt ein Plasma mit hoher Dichte aus vielen Gasen, einschließlich Ar, Xe, O2, N2 und anderen reaktiven Gasen.

Niedrige Energie und hoher Stromausgang

Die eH-Produkte geben einen Hochstrom- und Niedrigenergiestrahl aus. Der hohe Ionenstrom erfüllt kritische Ankunftsverhältnisse für hohe Prozessraten. Die hohe Stromstärke ermöglicht auch eine produktive Verarbeitung auf harten, harten Materialien. Durch den energiearmen Ionenbeschuss werden Oberflächen und Schnittstellen geschädigt. Die Verarbeitung bei niedrigen Energien hat sich beim Arbeiten mit empfindlichen Materialien bewährt.

Nicht eingetauchte Neutralisatoren

Die Standard-Neutralisiererkonfiguration besteht aus einem kostengünstigen feuerfesten Metallfaden, der sich über den Ionenstrahl erstreckt. Das Filament wird auf thermionische Emissionstemperatur erhitzt. Der Filamentneutralisator kann durch einen alternativen nicht eingetauchten Neutralisator ersetzt werden. Der nicht eingetauchte Neutralisator befindet sich seitlich der Quelle und außerhalb des Ionenstrahls. Wenn sich der Neutralisator außerhalb des Strahls befindet, ist die Zeit zwischen den Wartungsarbeiten für den nicht eingetauchten Neutralisator wesentlich länger als für den Filament-Neutralisator. Diese Konfiguration ohne Untertauchen ist für Installationen mit niedriger Frequenz und lange Betriebszeiten geeignet, wenn das Risiko einer Prozessunterbrechung minimiert werden muss.

Schnellwechsel-Anodenmodul

Das eH-Produkt enthält unser patentiertes Schnellwechsel-Anodenmodul. Das Anodenmodul kann zur Wartung schnell von der Ionenquelle entfernt werden, während der Quellkörper in der Kammer verbleibt. Das Anodenmodul ist leicht und austauschbar. Durch einfaches Austauschen des Arbeitsanodenmoduls gegen ein Ersatzmodul kann das eH-Produkt innerhalb von Minuten einsatzbereit sein. Das ausgebaute Anodenmodul kann einfach auf einer Werkbank gewartet werden, während Ihre Vakuumkammer weiterhin produktiv ist. Die Betriebszeitvorteile sind erheblich.

Stabile Neutralisierung

Die Produktlinie bietet einen dedizierten und regulierten Elektronenquellen-Neutralisator. Mit einer zuverlässigen Elektronenquelle können die Produkte dielektrische, elektrisch isolierte und elektrostatisch empfindliche Substrate verarbeiten. Die Elektronenmenge wird genau gesteuert, um sich an positive Ladungen anzupassen. Die Elektronen sind in der richtigen Menge im Ionenstrahl vorhanden und kommen an der Substratoberfläche an, um einen elektrisch neutralen Prozess bereitzustellen. Der Betrieb muss sich nicht auf eine mehrdeutige Elektronenquelle wie freiliegende und leitfähige Kammerhardware verlassen. Der Beschichtungsaufbau und elektromagnetische Streufelder, die in der Vakuumkammer vorhanden sein können, beeinträchtigen die Ionenstrahlqualität, -stabilität und -neutralisation der Produkte nicht. Wenn der Neutralisationsprozess jedoch nicht so kritisch ist, ermöglichen die Produkte den Betrieb ohne Neutralisator.