Gitterlose End Hall Ionenquellen

Die BeamTec GmbH vertreibt die komplette Modellpalette gitterloser End-Hall Ionenquellen von Kaufman & Robinson, Inc.
Typische Einsatzgebiete sind:

  • Metallisierungsanlagen
  • Bedampfungsanlagen für dielektrische Schichten
  • Systeme zur Ionenstrahlätzung
  • Systeme für diamantähnliche Schichten
  • Elektronenstrahl-Verdampfungssyteme

EH1000 Ion Source

© KRI 2005

End Hall Ionenstrahl-Technologie
EH Technology -click to enlarge Eigenschaften & Merkmale
  • gitterlos
    • reproduziebar, stabiler Strahl
  • hoher Ionenstrahlstrom
    • bis 6,0 A
  • niedrige Ionenenergie<
    • 40-210eV
  • divergenter Strahl
    • 60° Strahlwinkel
  • breite Abdeckung
    • Cosinus-Verteilung
  • vollständige Ladungsträgerneutralisation
    • automatisch

Produktüberblick
 
EH2000
EH3000
Quellenleistung
max. 200W
max. 400 W
max. 850 W
max. 1700 W
max. 3000 W
Anodenstrom
2 A
3,5 A
8 A
10 A
20 A
Ionenstrom @ Anodenstrom
500 mA @ 2A
875 mA @ 3,5A
2000 mA @ 8A
2500 mA @ 10A
6000 mA @ 10A
Anodenspannung
300 V max
300 V max
300 V max
300 V max
250 V max
mittl. Strahlenergie
35-210 eV
35-210 eV
35-210 eV
35-210 eV
35-200 eV mean
Gasfluss
1-20 sccm
1-50 sccm
1-100 sccm
1-100 sccm
1-150 sccm
Druck
< 1 x 10-3 mbar
< 1 x 10-3 mbar
< 1 x 10-3 mbar
< 1 x 10-3 mbar
< 1 x 10-3 mbar
Strahlwinkel
60°

Die neue Broschüre "Gridless Ion Beam Sources" ist nun verfügbar. Sie können ein elektronisches Exemplar auf Anfrage unter info@beamtec.de erhalten.

Ion Beam Sources Brochure